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3納米芯片面積比5納米產(chǎn)品縮小35% 耗電量減少50%

2020-01-06 08:31 作者:安卓在線 來(lái)源:網(wǎng)絡(luò)整理 瀏覽:

摘要::3納米芯片,5納米芯片,3納米【CNMO新聞】三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕近日參觀正在開發(fā)“全球第一個(gè)3納米級(jí)半導(dǎo)體工藝”的韓國(guó)京畿道華城半導(dǎo)體工廠,并聽(tīng)取了關(guān)于3納米工藝技術(shù)的報(bào)告,他還與三星電子半導(dǎo)體部門

  【CNMO新聞】三星電子副會(huì)長(zhǎng)李在镕近日參觀正在開發(fā)“全球第一個(gè)3納米級(jí)半導(dǎo)體工藝”的韓國(guó)京畿道華城半導(dǎo)體工廠,并聽(tīng)取了關(guān)于3納米工藝技術(shù)的報(bào)告,他還與三星電子半導(dǎo)體部門社長(zhǎng)團(tuán)討論了新一代半導(dǎo)體戰(zhàn)略。

李在镕
李在镕

  據(jù)了解,三星電子計(jì)劃利用極紫外光刻(EUV)工藝,提高在7納米以下精細(xì)工程市場(chǎng)的份額。3納米級(jí)半導(dǎo)體工藝計(jì)劃首先應(yīng)用到三星的晶圓代工(foundry)工程之中。三星計(jì)劃明年下半年在全球最早實(shí)現(xiàn)3納米級(jí)芯片的批量生產(chǎn)。

  三星電子將在最新的3納米工程中使用不同于其他工程的新一代工藝“GAA”。三星電子負(fù)責(zé)半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的部門表示,基于GAA工藝的3納米芯片面積可以比最近完成開發(fā)的5納米產(chǎn)品面積縮小35%以上,耗電量減少50%,處理速度可提高30%左右。



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